电镀设备与电镀电源之间的联系

    开关电源:开关电源兼有硅整流器的波形平滑性优点及可控硅整流器的调压方便的优点，电流效率高体积最小，数千安培至上万安培的大功率开关电源已进入生产实用阶段。开关电源其频率已达音频，通过滤波实现低纹波输出更为简便易行。而且稳流、稳压等功能更易实现。因此，开关电源是今后发展的方向。

    整流器的基本类型:硅整流器：硅整流器使用历史长，技术成熟，目前是整流器主流产品。各种整流电路获得的均是脉动直流电，不是纯直流。为了比较脉动成份的多少，一般用纹波系数来表示，其数值越小，交流成份越少，越接近纯直流。各种整流电路的波动系数不同。其由大到小的次序为：三相半波整流、三相全波桥式整流或带平衡电抗器的六相双反星形整流。可控硅利用改变可控硅管导通角来调整输出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管输出的是间断脉冲波，其纹波系数的受导通角控制，输出纹波系数大于普通硅整流电路。

    电镀电源对电镀工艺的影响:直流电源波形对电镀质量有突出的影响 各类电镀工艺中，镀铬是受电源波形影响最大的镀种之一。镀铬必须采用低纹波直流电源，否则光亮范围窄镀层易发花、发灰。在使用高效镀硬铬添加剂时，产生微裂纹铬层，输出纹波过大时，裂纹不细密且分布不均匀，达不到要求的裂纹数。光亮镀铜都有一个规律：从赫尔槽试片上看，阴极电流密度越大的地方，镀层光亮整平性越好;电流密度越低，光亮整平性越差。试图扩展低电流密度区光亮范围，同时降低高流密度区光亮度，光亮均匀最好。在实践中，采用同样的配方、工艺条件，使用相同的光亮剂，得到的光亮整平性与光亮范围，却可能出现较大差异，这与所用直流电源输出纹波系数大小有很大关系。

    光亮镀镍对整流输出纹波系数要求没有镀铬和光亮酸性镀铜那样高，但也确实需要采用普通低纹波输出直流电源，才能确保光亮镀镍层质量，且能保证后续套铬的质量。硫酸盐光亮酸性镀锡本身就是不易镀好的镀种，其原因是大生产中易引入杂质且不好处理(包括四价锡离子)、允许温度范围窄，目前光亮剂多数不理想，该工艺也要求采用低纹波系数直流电源，否则会出现与光亮酸性镀铜相类似的故障。镀液温升问题：纹波系数大的直流电源及脉冲电源往往会加快温升。纹波系数越大，其谐波分量也越大，能产生大量欧姆热，加快了镀液温升，采用平滑直流有利于将低镀槽温度。整流器负荷率对文波系数的影响： 工作电流越接近整流器的额定电流，波形越平滑，选择整流器时应根据工艺要求选取额定输出电源电压接近最大需求值，保证整流电源输出纹波系数始终保持在较低值。